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申请/专利权人：核工业西南物理研究院
申请日：2022-12-23
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118241169A
主分类号：C23C14/32
分类号：C23C14/32;C23C14/54
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明涉及低温等离子体技术和薄膜材料制备技术领域，具体涉及一种等离子体射流触发脉冲阴极弧源，包括：水冷阴极靶、磁流体、齿轮减速器、冷却水进出嘴、阴极靶电机、运动模组电机、磁场线圈、屏蔽壳、运动机械模组和等离子体电弧射流炬；本发明可以在高沉积速率条件下制备大面积高致密涂层，本发明装置利用脉冲等离子体产生炬产生的脉冲射流为阴极电弧靶点火，并结合阴极弧靶上脉冲电压和功率调节，控制阴极弧能量，来抑制电弧等离子体中含有的大颗粒缺陷，同时利用阴极弧靶和脉冲等离子体炬移动或转动，来实现阴极靶的均匀烧蚀和高均匀性膜层镀制。
主权项：1.一种等离子体射流触发脉冲阴极靶，其特征在于，包括：水冷阴极靶1、磁流体2、齿轮减速器3、冷却水进出嘴4、阴极靶电机5、运动模组电机6、磁场线圈7、屏蔽壳8、运动机械模组9和等离子体电弧射流炬10；所述屏蔽壳8内部设置有水冷阴极靶1和运动机械模组9，水冷阴极靶1的一端连接磁流体2，所述磁流体2设置在屏蔽壳8外部，磁流体2还与齿轮减速器3连接，齿轮减速器3上设置有阴极靶电机5和冷却水进出嘴4；所述屏蔽壳8的内壁面上设置还有运动机械模组9，所述运动机械模组9上固定有等离子体电弧射流炬10；屏蔽壳8的外壁缠绕有磁场线圈7；运动模组电机6的一端设置在屏蔽壳8的外部，运动模组电机6的另一端穿入屏蔽壳8内部与运动机械模组9连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 核工业西南物理研究院 一种等离子体射流触发脉冲阴极弧源
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