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一种周期性碗状结构模板的制备方法 

申请/专利权人:杭州邦齐州科技有限公司

申请日:2024-02-22

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118239445A

主分类号:B81C1/00

分类号:B81C1/00;B82Y40/00

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明公开了一种周期性碗状结构模板的制备方法,包括以下几个步骤:在晶圆衬底上表面镀二氧化硅膜层;在二氧化硅膜层表面涂覆光刻胶,对光刻胶进行光刻,使得光刻胶上形成有周期性光刻胶图形;对失去光刻胶保护部分的二氧化硅膜层进行离子束刻蚀处理,使二氧化硅膜层被刻蚀的位置形成有碗状凹槽;去胶,得到周期性碗状结构模板。本制备方法操作简单快速,可获得大面积周期性良好、尺寸均一的碗状结构模板,能够大批量生产;制备过程中不需要使用带有腐蚀性的化学品,保障操作人员安全。

主权项:1.一种周期性碗状结构模板的制备方法,其特征在于,包括以下几个步骤:提供晶圆衬底,在所述晶圆衬底上表面镀二氧化硅膜层;在所述二氧化硅膜层上表面涂覆光刻胶,对光刻胶进行光刻,使得光刻胶上形成有周期性光刻胶图形;对失去光刻胶保护部分的二氧化硅膜层进行离子束刻蚀处理,使二氧化硅膜层被刻蚀的位置形成有碗状凹槽;完全去胶,得到周期性碗状结构模板;其中,所述离子束刻蚀的刻蚀条件为刻蚀角度为35°~65°,氩气流量为5~30sccm,腔内压强为7×10-4Pa~8×10-4Pa,刻蚀时间为5min~10min。

全文数据:

权利要求:

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