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申请/专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日：2021-12-07
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN114381687B
主分类号：C23C14/04
分类号：C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12;H10K71/16
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.28#授权;2022.05.10#实质审查的生效;2022.04.22#公开
摘要：本发明涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于主框体并至少部分位于蒸镀区域内；其中，遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，支撑面和限位面在第一方向上间隔设置，连接面连接于支撑面和限位面之间，支撑面、限位面以及连接面共同界定形成限位槽，限位槽用于限制掩模板移动。上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下，掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动导致蒸镀形成的显示面板发生混色不良现象，进而提高了显示面板的良品率。
主权项：1.一种掩模框架，用于在垂直于蒸镀面的第一方向上支撑掩模板，其特征在于，所述掩模框架包括：主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内；其中，所述遮挡条包括第一遮挡部、第二遮挡部以及支撑部，所述第二遮挡部在所述第一方向上间隔设置于所述第一遮挡部的一侧，所述支撑部连接于所述第一遮挡部和所述第二遮挡部之间，所述第一遮挡部朝向所述第二遮挡部的一侧形成支撑面，所述支撑面用于在所述第一方向上支撑所述掩模板，所述第二遮挡部朝向所述第一遮挡部的一侧形成限位面，所述支撑部的侧面形成连接面，所述支撑面和所述限位面在所述第一方向上间隔设置，所述连接面连接于所述支撑面和所述限位面之间，所述支撑面、所述限位面以及所述连接面共同界定形成限位槽，所述限位槽用于限制所述掩模板移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥维信诺科技有限公司 掩模框架、掩模板以及掩模结构
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