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一种真空掩膜涂胶装置 

申请/专利权人:福建睿创光电科技有限公司

申请日:2023-11-13

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN221239179U

主分类号:G03F7/16

分类号:G03F7/16

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权

摘要:本实用新型公开了一种真空掩膜涂胶装置,包括滴胶机构,旋转机构,真空机构,掩膜组件;真空机构包含机身、顶盖、第一真空泵,顶盖可拆卸设置于机身顶部,真空泵通过真空管连通至机身内部;滴胶机构包括设置于顶盖上方的存储腔、以及连通存储腔与机身内部的滴胶针头;旋转系机构包括旋转马达;掩模组件包括掩模版以及将产品压紧于旋转马达输出端的掩模版支架。本实用新型相比于常规的涂胶曝光显影工艺可以省去后续的曝光显影等工序,简化了生产工艺,相比于丝网印刷工艺,其精度更高,胶厚更薄。

主权项:1.一种真空掩膜涂胶装置,其特征在于:包括滴胶机构,旋转机构,真空机构,掩膜组件;真空机构包含机身(5)、顶盖(4)、第一真空泵(6),所述顶盖(4)可拆卸设置于机身(5)顶部,所述真空泵通过真空管(7)连通至机身(5)内部;滴胶机构包括设置于顶盖(4)上方的存储腔(1)、以及连通存储腔(1)与机身(5)内部的滴胶针头;旋转系机构包括旋转马达(10);掩模组件包括掩模版(13)以及将产品(15)压紧于旋转马达(10)输出端的掩模版支架(14)。

全文数据:

权利要求:

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