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申请/专利权人：南京工业大学
申请日：2024-04-25
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259538A
主分类号：G03F7/00
分类号：G03F7/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明属于掩膜光刻技术领域，特别是涉及一种用于回转体表面微结构的掩膜曝光装置，包括台面，台面的顶面设置有夹紧模块、位置确定模块和光源移动模块；夹紧模块包括设置在台面顶面的驱动组件，驱动组件传动连接有夹紧组件，夹紧组件用于夹紧工件，工件与位置确定模块抵接；光源移动模块包括设置在台面顶面的横向移动组件，横向移动组件的顶端设置有纵向驱动组件，纵向驱动组件上设置有光源，光源与工件对应设置。本发明在使用时，通过设置横向移动组件实现了光源的横向移动；位置确定模块能够横向移动，因此可以对不同长度的工件进行位置固定。通过设置纵向驱动组件实现了光源在纵向的往复运动，对于不同直径的工件可以调节至合适的照射距离。
主权项：1.一种用于回转体表面微结构的掩膜曝光装置，其特征在于，包括台面1-1，所述台面1-1的顶面设置有夹紧模块、位置确定模块和光源移动模块；所述夹紧模块包括设置在所述台面1-1顶面的驱动组件、夹紧组件，所述驱动组件用于驱动所述夹紧组件转动，所述夹紧组件用于夹紧工件6，所述工件6与所述位置确定模块抵接；所述光源移动模块包括设置在所述台面1-1顶面的横向移动组件，所述横向移动组件的顶端设置有纵向驱动组件，所述纵向驱动组件上设置有光源4-11，所述光源4-11与所述工件6对应设置；所述夹紧模块、光源移动模块均与控制机构电性连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南京工业大学 一种用于回转体表面微结构的掩膜曝光装置
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