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申请/专利权人：武汉数字化设计与制造创新中心有限公司
申请日：2024-02-27
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118238015A
主分类号：B24B13/00
分类号：B24B13/00;B24B51/00
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明公开中大口径光学元件的区域选择性抛光方法、介质、设备，涉及中大口径光学元件制造技术领域，方法包括：根据光学元件的面形误差分布，设置抛光阈值；误差大于阈值的误差点构成的区域为目标区域，其余误差点构成非目标区域；在光学元件坐标系中的XY平面构造正六边形集合，内部有部分目标区域的正六边形构成驻留区间，所有驻留区间的正六边形的顶点和中心点是抛光驻留点，将在XY平面上得到的驻留点投影到光学曲面表面；求解驻留时间；以伪随机轨迹将所有驻留点单行依次连接，得到抛光轨迹；由驻留时间和抛光轨迹计算进给速度，并转化为数控抛光程序。本发明的方法可以提高中大口径光学元件的抛光效率。
主权项：1.中大口径光学元件的区域选择性抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、获取光学元件的面形误差数据，根据面形误差分布，设置抛光阈值；S2、根据设置的抛光阈值，将面形误差中误差值大于抛光阈值的误差点筛选出来，此部分误差点所构成的区域为目标区域，其余误差点构成非目标区域；S3、在光学元件坐标系中的XY平面构造边长为a的正六边形集合，内部含有部分目标区域的正六边形构成驻留区间，所有驻留区间的正六边形的顶点和中心点是XY平面上的驻留点，将XY平面上的驻留点投影到光学元件的曲面表面，得到三维空间内的驻留点；S4、构造去除函数矩阵，将去除函数与驻留时间的二维卷积过程转化为去除函数矩阵与驻留时间向量的乘积，通过线性方程组的方式求解驻留时间；S5、根据步骤S3中XY平面上的驻留点，以伪随机轨迹将所有XY平面上的驻留点依次连接，得到抛光轨迹；S6、根据步骤S4得到的驻留时间和步骤S5得到的抛光轨迹计算从一个三维空间内的驻留点到下一个三维空间内的驻留点的进给速度，并将三维空间内的驻留点的位置坐标和进给速度转化为数控抛光代码程序，驱动抛光设备进行抛光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉数字化设计与制造创新中心有限公司 中大口径光学元件的区域选择性抛光方法、介质、设备
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