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一种成膜装置的基座组件 

申请/专利权人:无锡先为科技有限公司

申请日:2021-09-03

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN115747770B

主分类号:C23C16/458

分类号:C23C16/458;C23C16/50;C23C14/50;C30B23/02;C30B25/12;H01J37/32

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2023.03.24#实质审查的生效;2023.03.07#公开

摘要:本申请实施例公开了一种成膜装置的基座组件,包括:基座本体,其设于成膜装置的反应腔室中;至少一个载盘,其可旋转地设于基座本体上;至少一个内轴,其轴向一端可与所述载盘直接或间接对接,以带动所述载盘相对于所述基座本体转动;管状的外轴,其环绕所述内轴的至少一部分并与所述基座本体的底部相连接,所述外轴可带动所述基座本体转动;加热件,其环绕所述外轴的至少一部分并与所述基座本体相邻设置,所述外轴包括位于所述加热件的加热区域内的外轴第一段及延伸出所述加热件的加热区域的外轴第二段;其中,基座组件至少包括一个外冷却管道和一个内冷却管道,所述外冷却管道在所述外轴第二段中延伸,所述内冷却管道在所述内轴中延伸。

主权项:1.一种成膜装置的基座组件,其特征在于,包括:基座本体1,其设于所述成膜装置的反应腔室中;至少一个载盘,其可旋转地设于所述基座本体上;至少一个内轴2,其轴向一端与所述载盘直接或间接对接,以带动所述载盘相对于所述基座本体转动;管状的外轴3,其环绕所述内轴的至少一部分并与所述基座本体1的底部相连接,所述外轴可带动所述基座本体转动;加热件4,其环绕所述外轴3的至少一部分并与所述基座本体1相邻设置,所述外轴3包括位于所述加热件4的加热区域内的外轴第一段及延伸出所述加热件4的加热区域的外轴第二段;其中,所述基座组件至少包括一个外冷却管道7和一个内冷却管道6,所述外冷却管道7在所述外轴第二段中延伸,所述内冷却管道6在所述内轴中延伸。

全文数据:

权利要求:

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