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申请/专利权人：华东师范大学

摘要：本发明公开了一种无掩膜光学双面光刻装置，包括图像光路系统、成像光路系统、基片承载系统及光刻电子系统；本发明通过计算机控制LCD控制器以控制液晶显示LCD模组的信号传输，将计算机生成的图样投射到涂有光刻胶的基片表面，完成无掩膜版的曝光及光刻。本发明采用两套成像光路系统，且两套成像光路系统相对于基片承载系统真空吸盘上的基片呈镜像设置，实现无掩膜多尺度光刻和双面光刻的功能。本发明以低成本实现无掩膜多尺度光刻和双面光刻功能。本发明可用于在基片双面制作图形，有效解决了现有技术中制作压力传感器及背面引线的离子敏感器件需双面精细加工的难题，为中小科研单位应用光刻技术提供了新思路。

主权项：1.一种无掩膜光学双面光刻装置，其特征在于，它包括图像光路系统（1）、成像光路系统（2）、基片承载系统（3）及光刻电子系统（4）；所述图像光路系统（1）由高压汞灯光源（101）、带通二向色镜（102）、第三反射镜（103）、液晶显示LCD模组（104）、第一反射镜（105）、第一胶合透镜（106）及第二反射镜（107）构成，且高压汞灯光源（101）、带通二向色镜（102）、第三反射镜（103）、液晶显示LCD模组（104）、第一反射镜（105）、第一胶合透镜（106）及第二反射镜（107）依次光路连接；所述成像光路系统（2）由第一分束镜（201）、第三胶合透镜（202）、第二分束镜（203）、高通滤光镜（204）、计时光阑（205）、第二胶合透镜（206）、写场透镜组（207）、第四反射镜（208）、照明光源（209）及光学镜架（210）构成，所述照明光源（209）、第三胶合透镜（202）、第一分束镜（201）及第二分束镜（203）依次光路连接；所述第二分束镜（203）将光路分为两路，一路与计时光阑（205）、第二胶合透镜（206）及写场透镜组（207）依次光路连接，另一路与第四反射镜（208）光路连接；所述第二分束镜（203）、高通滤光镜（204）、计时光阑（205）、第二胶合透镜（206）及写场透镜组（207）均置于光学镜架（210）上；所述基片承载系统（3）由三维中空电动平移台（501）及真空吸盘（502）构成，所述真空吸盘（502）设于三维中空电动平移台（501）上；所述光刻电子系统（4）由计算机（401）、第一CCD检测仪（402）、LCD控制器（404）及步进电机控制器（405）构成；所述计算机（401）分别与第一CCD检测仪（402）、第二CCD检测仪（403）、LCD控制器（404）及步进电机控制器（405）数据线连接；所述成像光路系统（2）为两套，且两套成像光路系统（2）相对于基片承载系统（3）呈镜像设置；两套成像光路系统（2）内的第四反射镜（208）互为光路连接；所述图像光路系统（1）的第二反射镜（107）与成像光路系统（2）的第一分束镜（201）光路连接；所述光刻电子系统（4）的LCD控制器（404）与图像光路系统（1）的液晶显示LCD模组（104）数据线连接；光刻电子系统（4）的步进电机控制器（405）与基片承载系统（3）的三维中空电动平移台（501）数据线连接；所述光刻电子系统（4）的第一CCD检测仪（402）与一套成像光路系统（2）内的第一分束镜（201）光路连接，第二CCD检测仪（403）与另一套成像光路系统（2）内的第一分束镜（201）光路连接；所述光刻电子系统（4）的计算机（401）分别与两套成像光路系统（2）内的计时光阑（205）数据线连接。

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