申请/专利权人：无锡卓瓷科技有限公司

申请日：2024-03-05

公开（公告）日：2024-06-25

公开（公告）号：CN117832036B

主分类号：H01J9/00

分类号：H01J9/00;H01J37/32;H01L21/683

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.25#授权;2024.04.23#实质审查的生效;2024.04.05#公开

摘要：本发明公开了一种热熔铝电极层静电吸盘及制作工艺，该制作工艺包括如下步骤，在氧化铝陶瓷底座的顶部加工出若干电极图形槽；在每个电极图形槽内均开设有一个电极插销孔；在每个电极插销孔的上端均插接有铜电极插销；在氧化铝陶瓷底座的若干电极图形槽内平铺有若干高纯铝颗粒，且放置于高真空炉中加热，熔化成铝液均匀流淌至若干电极图形槽的内部，铝液在若干电极图形槽冷却，形成热熔铝电极层；利用研磨机对热熔铝电极层的顶部进行研磨；将热熔铝电极层进行阳极氧化形成致密氧化层；在氧化铝陶瓷底座的顶部热熔射氧化铝形成氧化铝电介质层。本发明具有成本低、加工方便、制作热熔铝电极层方法简单、不需要昂贵设备、且厚度方便控制的优点。

主权项：1.一种热熔铝电极层静电吸盘的制作工艺，其特征在于，包括如下步骤，步骤一：在氧化铝陶瓷底座（1）的顶部加工出若干电极图形槽（2），每个电极图形槽（2）的深度均为1mm；步骤二：在每个电极图形槽（2）内均开设有一个电极插销孔（3），每个所述电极插销孔（3）的竖截面均呈“工”形；步骤三：精密清洗氧化铝陶瓷底座（1）；步骤四：在每个电极插销孔（3）的上端均插接有铜电极插销（4），每个所述铜电极插销（4）的竖截面均成“T”形；步骤五：在氧化铝陶瓷底座（1）的若干电极图形槽（2）内平铺有若干高纯铝颗粒（5），且放置于高真空炉中加热，达到铝的熔点，使高纯铝颗粒会熔化成铝液均匀流淌至若干电极图形槽（2）的内部，铝液在若干电极图形槽（2）冷却，粘合在若干电极图形槽（2）的内部形成电极图形，形成热熔铝电极层（6）；步骤六：利用研磨机对热熔铝电极层（6）的顶部进行研磨，直到使热熔铝电极层（6）的厚度为0.1mm-0.2mm；步骤七：将热熔铝电极层（6）进行阳极氧化形成致密氧化层；步骤八：在氧化铝陶瓷底座（1）的顶部热熔射氧化铝形成氧化铝电介质层（7），该氧化铝电介质层（7）的厚度为0.8mm-1mm；步骤九：对氧化铝陶瓷底座（1）顶部的氧化铝电介质层进行磨削、抛光、凸点（8）制造；步骤十：在每个电极插销孔（3）的下端均插接有通电电极（9），每个所述铜电极插销（4）的下端均插接于其对应的通电电极（9）的上端。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 无锡卓瓷科技有限公司 一种热熔铝电极层静电吸盘及制作工艺

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD