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静电吸盘及处理装置 

申请/专利权人:TOTO株式会社

申请日:2020-03-04

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN111668150B

主分类号:H01L21/683

分类号:H01L21/683;H01L21/67;H01J37/32

优先权:["20190305 JP 2019-039863","20200130 JP 2020-013617"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2021.10.29#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要:本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;第1多孔质部,与所述气体导入路相对;及第2多孔质部,所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部,所述第1多孔质部具有:第1多孔区域;及第1致密区域,所述第1多孔区域还具有第1致密部,所述第2多孔质部具有:第2多孔区域;及第2致密区域,所述第2多孔区域还具有第2致密部,当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠,或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。

主权项:1.一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;第1多孔质部,设置于所述陶瓷电介体基板且与所述气体导入路相对;及第2多孔质部,设置于所述基座板且与所述气体导入路相对,其特征为,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部,所述第1多孔质部具有:第1多孔区域,具有多个孔;及第1致密区域,比所述第1多孔区域更致密,所述第1多孔区域还具有至少1个第1致密部,所述第2多孔质部具有:第2多孔区域,具有多个孔;及第2致密区域,比所述第2多孔区域更致密,所述第2多孔区域还具有至少1个第2致密部,将从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向作为第1方向,将与所述第1方向正交的方向作为第2方向时,当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述第2致密部的至少一部分与所述第1致密部的至少一部分发生重叠,或者所述第2致密部的至少一部分与所述第1致密部的至少一部分接触。

全文数据:

权利要求:

百度查询: TOTO株式会社 静电吸盘及处理装置

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