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申请/专利权人：细美事有限公司
申请日：2023-11-20
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118263151A
主分类号：H01L21/67
分类号：H01L21/67;H01L21/02;B08B3/02;B08B13/00;G01D21/02
优先权：["20221227 KR 10-2022-0185899"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：提供一种基板处理设备，其包括：腔室，所述腔室包括内部空间；流体供应单元，所述流体供应单元被配置为将超临界流体供应到所述内部空间；流体排出单元，所述流体排出单元被配置为将所述超临界流体从所述内部空间排出；以及控制器，所述控制器被配置为控制所述流体供应单元和所述流体排出单元，其中所述流体供应单元包括：流体供应源；供应管线，所述供应管线将所述流体供应源和所述腔室彼此连接；流量控制阀，所述流量控制阀安装在所述供应管线中；以及流量测量构件，所述流量测量构件安装在所述供应管线中并且定位在所述流体供应源与所述流量控制阀之间，并且所述控制器还被配置为控制所述流量控制阀基于由所述流量测量构件测量的所述超临界流体的流量来供应所述超临界流体。
主权项：1.一种基板处理设备，包括：腔室，所述腔室包括内部空间；流体供应单元，所述流体供应单元被配置为将超临界流体供应到所述内部空间；流体排出单元，所述流体排出单元被配置为将所述超临界流体从所述内部空间排出；以及控制器，所述控制器被配置为控制所述流体供应单元和所述流体排出单元，其中所述流体供应单元包括：流体供应源；供应管线，所述供应管线将所述流体供应源和所述腔室彼此连接；流量控制阀，所述流量控制阀安装在所述供应管线中；以及流量测量构件，所述流量测量构件安装在所述供应管线中并且定位在所述流体供应源与所述流量控制阀之间，并且所述控制器还被配置为控制所述流量控制阀基于由所述流量测量构件测量的所述超临界流体的流量来供应所述超临界流体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 细美事有限公司 基板处理设备和基板处理方法
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