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薄膜表面声波滤波器及其制作方法 

申请/专利权人:深圳新声半导体有限公司

申请日:2024-02-04

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN117713741B

主分类号:H03H9/25

分类号:H03H9/25;H03H9/145;H03H9/10;H03H9/02;H03H9/64;H03H3/08

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要:本申请涉及半导体器件技术领域,公开一种薄膜表面声波滤波器及其制作方法。其中,薄膜表面声波滤波器包括基板、IDT电极、焊盘金属层、保护层、支撑部、覆盖部和通孔。基板包括压电层和承载衬底。IDT电极设置于压电层的上方。焊盘金属层设置于承载衬底的上方,且与IDT电极电连接。保护层设置于承载衬底的上方。保护层覆盖于压电层和IDT电极并暴露焊盘金属层。支撑部设置于保护层,并暴露分别与IDT电极和焊盘金属层对应的区域。覆盖部设置于支撑部,且横跨IDT电极上方区域以与支撑部围合形成空腔;通孔通过暴露覆盖部与焊盘金属层对应的区域形成。本申请实现了薄膜表面声波滤波器的小型化、低成本化。

主权项:1.一种薄膜表面声波滤波器,其特征在于,包括:基板,包括压电层和设置于压电层的下方的承载衬底;IDT电极,设置于压电层的上方;焊盘金属层,设置于承载衬底的上方,且与IDT电极电连接;保护层,设置于承载衬底的上方,且保护层覆盖于压电层和IDT电极并暴露焊盘金属层;支撑部,设置于保护层,并暴露分别与IDT电极和焊盘金属层在垂直方向上对应的区域;覆盖部,设置于支撑部,且横跨IDT电极上方区域以与支撑部围合形成空腔;通孔,暴露覆盖部与焊盘金属层在垂直方向上对应的区域形成;其中,承载衬底包括从下至上层叠设置的基底层、缓冲层和补偿层;获取基板的方式,包括:提供压电基板;在压电基板的下表面沉积补偿层;在补偿层的下表面沉积缓冲层;将基底层与缓冲层的下表面键合。

全文数据:

权利要求:

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