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申请/专利权人：昆山驰诺新材料科技有限公司
申请日：2024-04-18
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118254404A
主分类号：B29C71/00
分类号：B29C71/00;B08B5/02;B08B15/04
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明公开了一种基于高分子膜加工的电晕装置，包括底座及其上设置的机箱，且机箱两侧还分别设置有供膜机构和收膜机构，所述机箱的内部设置有对高分子膜进行电晕处理的电晕机构，本发明涉及高分子膜后处理技术领域。该基于高分子膜加工的电晕装置，利用分离组件与组合式电晕座的配合，可通过分离组件分离出部分电晕座，以控制接入电路的电晕座的总宽度，进而可更好的适配高分子膜的宽度，适配性强且较为智能化，同时电晕座数量的减少导致的电阻值变化，可相对的减少耗电量，避免多余电晕座放电导致的浪费电现象，较为节能，且将多余的电晕座推开后，与通电的电晕座间隔开，可降低多余电晕座对电晕的吸引力，使电晕充分的处理高分子膜。
主权项：1.一种基于高分子膜加工的电晕装置，包括底座及其上设置的机箱，且机箱两侧还分别设置有供膜机构和收膜机构，其特征在于：所述机箱的内部设置有对高分子膜进行电晕处理的电晕机构，以及设置于电晕机构来料侧的用于清洁高分子膜的吹尘机构，所述电晕机构分设有上下相对设置的上电晕机构和下电晕机构，且上电晕机构和下电晕机构均包括：电晕座，设置有数量为奇数的若干组用于通电放出电晕，中间所述电晕座连接电路，与中间电晕座直接或间接贴合的电晕座相互并联；轨道杆，用于贯穿若干电晕座供其同轴滑动，且轨道杆非圆杆；电晕机构还包括：分离组件，设置有两组且相对同步运动，通过下压使若干组贴合的电晕座两端分离出同等数量的电晕座，以根据高分子膜宽度对应控制放射电晕的范围；安装架，用于安装轨道杆和分离组件，且安装架与电晕座之间弹性压接有套设在轨道杆外的弹性件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 昆山驰诺新材料科技有限公司 一种基于高分子膜加工的电晕装置
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