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申请/专利权人：广纳四维(广东)光电科技有限公司
申请日：2024-02-07
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118259400A
主分类号：G02B6/13
分类号：G02B6/13;G02B6/124;G02B5/18;G02B6/12
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明公开了一种衍射光波导的硅模板的制备方法，通过光刻工艺直接在硅基底上形成底部齐平但高度不同的光栅结构，或者通过基于相应的模板图形膜层在模板图形膜层的图形间隙之间形成相应光栅物质，形成底部齐平高度不同的光栅结构，这样，在由硅模板进行转印后形成的软模板具有顶部齐平，底部高度不同的光栅结构，再由软模块转印形成衍射光波导时，衍射光波导上的不同光栅区域的光栅高度不同，但底部齐平，光线在衍射光波导到内部传输时，不会因为厚度的不同而影响衍射光波导的显示效果。
主权项：1.一种衍射光波导的硅模板的制备方法，其特征在于，包括：在硅基底上形成光栅膜层，并基于相应光刻参数对所述光栅膜层进行光刻工艺，形成底部齐平高度不同的光栅结构；或者，在所述硅基底上形成模板图形膜层，并在所述模板图形膜层的图形间隙之间形成相应光栅物质，去除所述模板图形膜层以形成底部齐平高度不同的光栅结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广纳四维(广东)光电科技有限公司 一种衍射光波导的硅模板的制备方法
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