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一种清洗装置 

申请/专利权人:深圳珑璟光电科技有限公司

申请日:2023-08-28

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN221231183U

主分类号:B08B3/04

分类号:B08B3/04;B08B13/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权

摘要:本申请涉及光波导制造技术领域,尤其涉及一种清洗装置。清洗装置包括清洗槽和承载台。清洗槽用于清洗待清洗件;承载台用于放置于清洗槽内,承载台开设有密封槽,密封槽与待清洗件相适配,密封槽用于放置待清洗件,并且在待清洗件放置于密封槽内时,密封槽与待清洗件密封接触,以将待清洗件的非清洗面与外界隔绝。本申请实施例的清洗装置,通过在承载台设置与待清洗件相适配的密封槽,待清洗件放置于密封槽内时,密封槽能够将待清洗件的非清洗面与外界隔绝,从而保护非清洗面,当待清洗件为衍射光波导时,能够保护衍射光波导上的增透膜,改善因增透膜损坏或者清洗褪去而需要重新镀膜的问题,降低镀膜成本,提高衍射光波导的加工效率。

主权项:1.一种清洗装置,其特征在于,包括:清洗槽,用于清洗待清洗件;承载台,用于放置于所述清洗槽内,所述承载台开设有密封槽,所述密封槽与所述待清洗件相适配,所述密封槽用于放置所述待清洗件,并且在所述待清洗件放置于所述密封槽内时,所述密封槽与所述待清洗件密封接触,以将所述待清洗件的非清洗面与外界隔绝。

全文数据:

权利要求:

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