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等离子体产生装置和等离子体处理设备 

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申请/专利权人:深圳市恒运昌真空技术股份有限公司

摘要:本发明公开了一种等离子体产生装置和等离子体处理设备,涉及等离子体技术领域,其中,双电极等离子体产生装置包括:等离子体产生主体,所述等离子体产生主体包括进气通道、扩散组件和电极组件,所述进气通道具有进气口和出气口;所述电极组件、所述扩散组件沿第一方向依次设于所述进气通道内;所述电极组件,用于对流过的工艺气体进行电离以产生等离子体;所述扩散组件,用于对被电离后的工艺气体进行扩散。本发明提供的一种等离子体产生装置能够提高经电离得到等离子体的均匀一致性。

主权项:1.一种等离子体产生装置,其特征在于,包括:等离子体产生主体,所述等离子体产生主体包括壳体组件、扩散组件和电离组件,所述壳体组件形成有进气通道,所述进气通道具有进气口和出气口;所述电离组件,设于所述壳体组件上,所述电离组件包括电源装置和与所述电源装置电连接的电极组件,所述电极组件用于根据所述电源装置输出的电源对所述进气通道流过的气体进行电离以产生等离子体;所述扩散组件包括第一扩散板和第二扩散板,所述第一扩散板和所述第二扩散板沿所述进气口至所述出气口方向依次设置在所述进气通道内;所述电极组件设于所述进气口与所述第一扩散板之间,或者所述电极组件设于所述第一扩散板与所述第二扩散板之间,或者所述电极组件设于所述第二扩散板与所述出气口之间。

全文数据:

权利要求:

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