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等离子体产生装置和等离子体处理设备 

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申请/专利权人:深圳市恒运昌真空技术股份有限公司

摘要:本发明公开了一种等离子体产生装置和等离子体处理设备,涉及等离子体技术领域,其中,气体扩散模块,包括:第一壳体,所述第一壳体具有第一进气口、第一出气口以及扩散腔;第一扩散板,所述第一扩散板上设有多个第一扩散孔;第二扩散板,所述第二扩散板上设有多个第二扩散孔;所述第一扩散板和所述第二扩散板沿所述第一进气口至所述第一出气口方向依次设置在所述扩散腔内;本发明提供的气体扩散模块能够提高工艺气体的均匀性。

主权项:1.一种等离子体产生装置,其特征在于,包括:等离子体产生主体,所述等离子体产生主体包括壳体组件、扩散组件和电离组件,所述壳体组件形成有进气通道,所述进气通道具有进气口和出气口;所述电离组件,设于所述壳体组件上,用于对所述进气通道流过的气体进行电离以产生等离子体;所述扩散组件设于所述壳体组件上,并位于所述进气通道内,所述扩散组件用于对所述进气通道流过的气体进行扩散;所述扩散组件包括第一扩散板和第二扩散板,所述第一扩散板和所述第二扩散板沿所述进气口至所述出气口方向依次设置在所述进气通道内;所述第一扩散板上设有多个第一扩散孔,所述第二扩散板上设有多个第二扩散孔,至少部分所述第一扩散孔沿所述进气口至所述出气口方向在所述第二扩散板上的投影与所述第二扩散板上的至少部分所述第二扩散孔呈部分重叠设置。

全文数据:

权利要求:

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