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申请/专利权人：苏州苏纳光电有限公司
摘要：本发明公开了一种二次成型的微透镜制备方法及微透镜结构。该二次成型的微透镜制备方法包括以下步骤，S1、在基底的第一面上形成有第一图形结构的掩膜，刻蚀除去未被掩膜覆盖的基底的一部分，在基底的第二面上形成第一图形结构；S2、在基底的第二面上形成介质膜层，介质膜层叠加第一图形结构；S3、在相同的刻蚀条件下，同步对介质膜层和基底的第二面刻蚀，将介质膜层完全刻蚀去除，在基底上形成第二图形结构；其中，介质膜层与基底的刻蚀速度不同，第二图形结构包含第一图形结构。本发明利用基底和介质膜层的高刻蚀选择比的差异实现超高矢高的透镜制备，可以实现制备超高矢高的透镜，提高超高矢高透镜制备的良率，扩展其应用领域。
主权项：1.一种二次成型的微透镜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、在基底的第一面上形成具有第一图形结构的掩膜，刻蚀除去未被所述掩膜覆盖的基底的一部分，直至刻蚀至所述基底的第二面，在所述基底的第二面上形成所述第一图形结构；S2、在所述基底的第二面上形成介质膜层，所述介质膜层叠加所述第一图形结构设置；S3、在相同的刻蚀条件下，同步对所述介质膜层和所述基底的第二面进行刻蚀，直至将所述介质膜层完全刻蚀去除，最终在所述基底上形成第二图形结构；其中，所述介质膜层与所述基底的刻蚀速度不同，所述第二图形结构包含所述第一图形结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州苏纳光电有限公司 一种二次成型的微透镜制备方法及微透镜结构
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