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申请/专利权人：常州苏晶电子材料有限公司
摘要：本实用新型属于靶材研磨技术领域，尤其是一种靶材低温研磨装置，现提出如下方案，包括安装于支架上的集料斗，所述集料斗下方连通有加压罐，所述加压罐上安装有供压组件及喷射组件。本实用新型本技术方案，对靶材表面进行低温研磨加工后，靶材使用初期放电稳定，Particle合格，溅射速率正常，膜质优异；同时，降低工人工作强度，改善工作环境，靶材表面不发热，靶材表粗低，靶材表面洁净度高，大幅提高靶材表面质量，改善工作环境，降低工作强度。
主权项：1.一种靶材低温研磨装置，其特征在于：包括安装于支架1上的集料斗2，所述集料斗2下方连通有加压罐3，所述加压罐3上安装有供压组件及喷射组件；所述供压组件包括管道6、气包8及空压机9，所述气包8通过管道6与所述加压罐3相连通，所述空压机9与所述气包8相连，对支架1提供气压；所述喷射组件包括喷射嘴5及输送管10，所述喷射嘴5通过输送管10与所述加压罐3相连通。
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权利要求：
百度查询： 常州苏晶电子材料有限公司 靶材低温研磨装置
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