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一种GaN HEMT结构太赫兹探测器及制备方法 

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申请/专利权人:西安电子科技大学广州研究院;西安电子科技大学

摘要:本发明涉及一种GaNHEMT结构太赫兹探测器及制备方法,太赫兹探测器包括:衬底层、复合缓冲层、沟道层、势垒层、栅电极、源电极、漏电极、钝化层和微透镜,其中,衬底层、复合缓冲层、沟道层、势垒层依次层叠;栅电极、源电极、漏电极均位于势垒层上,且栅电极位于源电极和漏电极之间;钝化层位于势垒层、栅电极、源电极和漏电极上;微透镜位于钝化层上,且微透镜的表面呈凸起状以聚焦入射太赫兹波。该太赫兹探测器中设置表面呈凸起状的微透镜以聚焦入射太赫兹波,可以减小GaNHEMT结构太赫兹探测器对太赫兹波的接受面积,提高接受太赫兹波的效率,提高太赫兹探测器的响应度等各项指标,整体上提高该太赫兹探测器的探测信号的性能。

主权项:1.一种GaNHEMT结构太赫兹探测器,其特征在于,包括:衬底层1、复合缓冲层2、沟道层3、势垒层4、栅电极5、源电极6、漏电极7、钝化层8和微透镜9,其中,所述衬底层1、所述复合缓冲层2、所述沟道层3、所述势垒层4依次层叠;所述栅电极5、所述源电极6、所述漏电极7均位于所述势垒层4上,且所述栅电极5位于所述源电极6和所述漏电极7之间;所述钝化层8位于所述势垒层4、所述栅电极5、所述源电极6和所述漏电极7上;在所述钝化层8上制备介质层,并采用表面呈凸起状的光刻胶作为掩膜版,刻蚀所述光刻胶和所述介质层制备得到表面呈凸起状的微透镜9;所述微透镜9的一面为凸起状以聚焦入射太赫兹波,另一面为平面状,且所述平面状的表面与所述钝化层8上表面接触;所述微透镜9凸起处的厚度为50nm-10µm,所述微透镜9的凸起处是指微透镜9的厚度最大处。

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