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一种光学元件双表面面形测量方法 

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申请/专利权人:天津大学

摘要:本发明涉及光学元件面形测量领域,具体涉及一种光学元件双表面面形测量方法,包括:建立光学元件双表面面形的基础测量装置;对所述基础测量装置进行标定处理得到光学元件双表面面形的测量装置;利用所述测量装置获取待测量光学元件的反射条纹数据;根据所述待测量光学元件的反射条纹数据得到光学元件双表面面形测量结果,由相机拍摄单幅图像即可完成计算,与现有所有方法相比都具备显著的检测速度优势。最后,由于本方法基于反射定律进行计算,对大尺寸光学元件双表面面形非常敏感,能够达到微米甚至亚微米级的测量精度。

主权项:1.一种光学元件双表面面形测量方法,其特征在于,包括:S1、建立光学元件双表面面形的基础测量装置;S2、对所述基础测量装置进行标定处理得到光学元件双表面面形的测量装置;S3、利用所述测量装置获取待测量光学元件的反射条纹数据;S4、根据所述待测量光学元件的反射条纹数据得到光学元件双表面面形测量结果;S4-1、利用所述待测量光学元件的反射条纹数据进行分离处理得到反射条纹分离数据;S4-2、获取所述反射条纹分离数据的拓扑关系;S4-2-1、利用所述基础测量装置的相机对应特征点作为基准点;S4-2-2、基于所述基准点根据单轮廓方向进行搜索分别得到反射条纹图像的上表面与离散反射条纹的拓扑关系和反射条纹图像的下表面与离散反射条纹的拓扑关系;S4-2-3、利用所述反射条纹图像的上表面与离散反射条纹的拓扑关系和反射条纹图像的下表面与离散反射条纹的拓扑关系作为反射条纹分离数据的拓扑关系;S4-3、根据所述拓扑关系进行相位解算处理得到反射条纹数据的解算结果;S4-4、利用所述反射条纹数据的解算结果得到光学元件双表面面形测量结果。

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权利要求:

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