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申请/专利权人：细美事有限公司
摘要：衬底处理装置包括：处理室，包括上腔室和下腔室，下腔室具有用于处理衬底的处理空间；衬底支撑单元，设置在处理空间中，衬底支撑单元固定衬底；供气单元，将工艺气体供应到上腔室和处理空间的内部；等离子体产生单元，包括设置在上腔室中的上电极和连接到上电极的高频电源，高频电源通过阻抗匹配器供应高频电力；以及滤波器单元，连接到上电极，滤波器单元去除在上电极的一个表面上累积的电荷。
主权项：1.一种衬底处理装置，包括：处理室，包括上腔室和下腔室，所述下腔室具有用于处理衬底的处理空间；衬底支撑单元，设置在所述处理空间中，所述衬底支撑单元固定所述衬底；供气单元，将工艺气体供应到所述上腔室和所述处理空间的内部；等离子体产生单元，包括设置在所述上腔室中的上电极和连接到所述上电极的高频电源，所述高频电源通过阻抗匹配器供应高频电力；以及滤波器单元，连接到所述上电极，所述滤波器单元去除在所述上电极的一个表面上累积的电荷。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 细美事有限公司 用于处理衬底的装置和方法
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