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申请/专利权人：江苏籽硕科技有限公司

摘要：本发明提供一种化学气相淀积装置及其调节方法，涉及化学气相淀积领域。该基于化学气相淀积装置，包括底座和工作台，所述底座的上方固定连接有工作台，所述工作台的上方中部固定连接有淀积室，所述工作台的上方一端固定连接有第一原料室，所述工作台的上方远离第一原料室的一端固定连接有第二原料室，所述工作台的上方靠近第二原料室的一端固定连接有控制台，所述淀积室的两端中部均固定连接有保温管，两个所述保温管的中部均设置有控制阀。通过在淀积室设置对称的原料室进行原料气供应，加速原料气的扩散效率，提高了原料气的供应均匀度，便于后续激光辅助淀积，提高了加工效率。

主权项：1.一种化学气相淀积装置，包括底座1和工作台2，其特征在于：所述底座1的上方固定连接有工作台2，所述工作台2的上方中部固定连接有淀积室3，所述工作台2的上方一端固定连接有第一原料室4，所述工作台2的上方远离第一原料室4的一端固定连接有第二原料室5，所述工作台2的上方靠近第二原料室5的一端固定连接有控制台6，所述淀积室3的两端中部均固定连接有保温管7，两个所述保温管7的中部均设置有控制阀8；所述淀积室3一面中部设置有紧闭机构9，所述淀积室3内部两侧与紧闭机构9相对应的位置处均固定连接有限位座21，两个所述限位座21的内侧滑动连接有反应台11，所述反应台11靠近紧闭机构9的一侧穿过淀积室3固定连接有密封板10，所述反应台11的内部阵列固定镶嵌连接有多个金属加热板12，所述金属加热板12的上方均设置有石英舟13，所述淀积室3的下方中部固定连接有升降座14，所述升降座14的输出端固定连接有加热台15，所述淀积室3的内部上方两侧均固定连接有调节平台26，两个所述调节平台26的下方均设置有激光器27，所述底座1的内部两侧均固定连接有激光发生器29；所述第一原料室4和第二原料室5的内部与保温管7相对应的位置处均固定连接有加热炉24，两个所述加热炉24的上方均固定连接有原料罐25，两个所述原料罐25远离加热炉24的一端均设置有机械泵23，两个所述机械泵23的进气口处均通过管道固定连通有氩气瓶22；所述淀积室3的顶部固定连接有布气座16，所述布气座16的顶部固定连接有保护气管道17，所述底座1的内部的中部固定连接有保护气瓶30，所述淀积室3的下方两侧均固定连接有负压管道18，两个所述负压管道18的下方均穿过工作台2固定连通有负压泵19，两个所述负压泵19的出气口均通过管道固定连通有废气处理室31；所述紧闭机构9包括两个上滑座901、两个下滑座902、滑动板903、旋紧器904、同步齿轮座905和齿条板906，两个所述上滑座901和两个下滑座902均与淀积室3固定连接，且分别固定于密封板10的两侧上方和两侧下方位置，所述淀积室3的两侧通过两个上滑座901和两个下滑座902滑动连接有两个滑动板903，两个所述滑动板903的中部均螺纹连接有旋紧器904，所述淀积室3在密封板10的下方中部的位置处固定连接有同步齿轮座905，所述同步齿轮座905的内部转动连接有同步齿轮，所述同步齿轮靠近淀积室3和远离淀积室3的一侧均啮合有齿条板906，两个所述齿条板906远离同步齿轮的一端均穿过相对应的下滑座902与相对应的滑动板903固定连接。

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