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申请/专利权人：安徽华晟新材料有限公司
摘要：本实用新型提供了一种硅片清洗装置及硅片清洗设备，涉及硅片清洗技术领域。硅片清洗装置包括：支架、输送机构、顶部喷淋机构和底部喷淋机构，其中，输送机构，包括下滚轮组件和上滚轮组件，下滚轮组件和上滚轮组件均沿水平方向安装于支架上，上滚轮组件与下滚轮组件之间具有适于使硅片通过的间隙；顶部喷淋机构与底部喷淋机构分别设置于输送机构的上下两侧，顶部喷淋机构与底部喷淋机构的喷口均朝向输送机构设置。本实用新型提供的硅片清洗设备，在硅片通过输送机构时，顶部喷淋机构和底部喷淋机构喷出清洗液体到硅片的上下表面上以对硅片进行清洗，在硅片的输送过程完成清洗，无需再单独清洗，避免了硅片在横插过程中的碎片，保证了良品率。
主权项：1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：支架、输送机构、顶部喷淋机构和底部喷淋机构，其中：所述输送机构，包括下滚轮组件和上滚轮组件，所述下滚轮组件和所述上滚轮组件均沿水平方向安装于所述支架上，所述上滚轮组件与所述下滚轮组件之间具有适于使硅片通过的间隙；所述顶部喷淋机构与所述底部喷淋机构分别设置于所述输送机构的上下两侧，所述顶部喷淋机构与所述底部喷淋机构的喷口均朝向所述输送机构设置；所述上滚轮组件具有并排设置的多个滚动结构，所述滚动结构包括轴和套设在轴上的套体，所述套体的内径大于所述轴的外径，当硅片未置于所述滚动结构和所述滚轮之间时，所述间隙的宽度小于或等于硅片的厚度，当硅片放置于所述滚动结构和所述滚轮之间时，硅片对所述套体下部施加朝向所述轴运动的顶紧力，使得所述套体将硅片按压在所述滚轮上进行移动。
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百度查询： 安徽华晟新材料有限公司 硅片清洗装置及硅片清洗设备
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