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申请/专利权人：福建省佑达环保材料有限公司
摘要：本发明公开了一种半导体用光刻胶清洗剂，属于清洗剂技术领域。该光刻胶清洗剂所含组分及其各组分所占重量百分数为：5‑20%有机碱、40‑70%极性非质子溶剂、10‑30%有机醇醚、0.1‑2.5%缓蚀剂，其中，所述缓蚀剂为带有两个席夫碱基团以及一个吡啶基团的新型Gemini表面活性剂，该Gemini表面活性剂结构新颖，具有较低的临界胶束浓度，可通过物理吸附及化学吸附的双重作用在金属表面起到良好的缓蚀效果。
主权项：1.一种半导体用光刻胶清洗剂，其特征在于，其所含组分及其各组分所占重量百分数为：5-20%有机碱、40-70%极性非质子溶剂、10-30%有机醇醚、0.1-2.5%缓蚀剂，各组分重量百分数之和为100%。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 福建省佑达环保材料有限公司 一种半导体用光刻胶清洗剂
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