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基于能消除衍射的平行光光源的大幅面光刻系统 

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申请/专利权人:凡泰科技术研发(辽宁)有限责任公司

摘要:本发明涉及电路板制造技术领域,尤其涉及一种基于能消除衍射的平行光光源的大幅面光刻系统,包括平行曝光光源、透镜、入射调节器、掩膜夹持器、掩膜版、移动式曝光台、控制台、光源传感器、图像传感器、对准传感器、校准传感器以及光学成像传感器。本发明通过实时监测与智能调整,系统能够自动补偿光强不均匀、入射角度偏差、掩膜版位置误差和曝光台移动速度不一致等问题,这种智能化控制显著提高了光刻的精度和重复性,减少了人为干预和潜在的误差,从而提升了生产效率和产品质量,此外,系统的灵活性和精确性使其能够适应不同的光刻需求和工艺条件,为高精度半导体制造和其他微纳米制造领域提供了强大的技术支持。

主权项:1.一种基于能消除衍射的平行光光源的大幅面光刻系统,其特征在于,包括:平行曝光光源,用以根据预设的光源功率在预设的曝光时间内产生光束;透镜,用以将照射至其表面的所述光束折射,并使所述光束保持垂直于水平面;入射调节器,用以调节所述平行曝光光源的照射角度和所述平行曝光光源相对于所述透镜的距离;掩膜夹持器,用以夹持用以控制透过的所述光束形成预定图案的掩膜版平行于用以承载感光硅片的移动式曝光台,并带动所述掩膜版相对于所述移动式曝光台移动;控制台,分别与用以监测所述光束照射至所述透镜表面的实时光强分布均匀度的光源传感器和所述平行曝光光源连接,用以根据实时光强分布均匀度调整光源功率;所述控制台还分别与所述入射调节器和用以监测透过所述透镜的光束的实时入射角度和所述光束在所述透镜表面的椭圆照射区域的实时长轴长度的图像传感器连接,用以根据所述图像传感器的监测结果和预设的标准角度范围选择调整所述平行曝光光源的照射角度或所述平行曝光光源相对于所述透镜的距离;所述控制台还分别与所述掩膜夹持器和用以监测所述掩膜版的实时掩膜版位置的对准传感器连接,用以根据所述对准传感器的监测结果和预设的标准位置偏差移动所述掩膜夹持器;所述控制台还分别与所述移动式曝光台和用以监测所述移动式曝光台的实时曝光台移动速度的校准传感器连接,用以根据所述校准传感器的监测结果和预设的标准移动速度移动所述移动式曝光台;所述控制台还与用以监测曝光图案的质量的光学成像传感器连接,用以根据所述光学成像传感器的监测结果调整所述移动式曝光台的标准移动速度,或,调整曝光时间,或,调整标准位置偏差。

全文数据:

权利要求:

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