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申请/专利权人：佳能株式会社
摘要：本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并且抑制成像性能降低的光学装置，本发明所涉及的光学装置的特征在于具备：光学元件5；收纳光学元件5的镜筒11；设定从气体供给机构向镜筒11内供给的气体17的行进方向的行进方向设定机构16；以及控制行进方向设定机构16以便变更气体17的行进方向的控制部18。
主权项：1.一种曝光装置，该曝光装置将原版的图案的像投影到基板，对上述基板进行曝光，其特征在于，具备：投影光学系统，该投影光学系统将上述图案的像投影到上述基板；镜筒，该镜筒收纳上述投影光学系统；行进方向设定机构，该行进方向设定机构设定从气体供给机构向上述镜筒内供给的气体的行进方向；以及控制部，该控制部控制上述行进方向设定机构以便变更上述气体的行进方向，上述控制部在曝光时控制上述行进方向设定机构以便向上述镜筒内供给的气体沿着不在上述投影光学系统的光路通过的方向行进，而在非曝光时控制上述行进方向设定机构以便向上述镜筒内供给的气体沿着在上述投影光学系统的光路通过的方向行进。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 佳能株式会社 光学装置、曝光装置以及物品制造方法
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