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申请/专利权人：安集微电子(上海)有限公司
摘要：本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，腐蚀抑制剂，络合剂，氧化剂，和至少一种聚丙烯酸类阴离子表面活性剂，以及金属表面缺陷改善剂。本发明抛光液的优点在于：1本发明的抛光液对铜的抛光速率高，对钽的抛光速率低，从而具有较高的铜钽抛光速率选择比；2本发明的抛光液可以改善抛光后铜线的碟型凹陷和介质层侵蚀；3本发明的抛光液可以改善抛光后铜表面粗糙度，减少缺陷。
主权项：1.一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、腐蚀抑制剂，络合剂、氧化剂、聚丙烯酸类阴离子表面活性剂和金属表面缺陷改善剂，其中，所述聚丙烯酸类阴离子表面活性剂包括聚丙烯酸均聚物和或共聚物及聚丙烯酸均聚物和或共聚物的盐一种或多种；所述二氧化硅研磨颗粒的粒径分布指数为0.1-0.6；所述化学机械抛光液的pH值为5-8；所述金属表面缺陷改善剂包括多元醇、亲水性聚合物中的一种或多种，所述金属表面缺陷改善剂的质量百分比含量为0.01%-3%，所述亲水聚合物包括聚丙烯酰胺，聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物中的一种或多种，所述亲水性聚合物的分子量为1000~20000；所述腐蚀抑制剂包括1，2，4-三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、4-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一种或多种，所述腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.001%-2%；所述聚丙烯酸类均聚物为聚丙烯酸和或聚马来酸；所述聚丙烯酸类共聚物为聚丙烯酸-聚丙烯酸酯共聚物和或聚丙烯酸-聚马来酸共聚物；所述聚丙烯酸均聚物和或共聚物的盐为钾盐、铵盐和或钠盐。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 安集微电子(上海)有限公司 一种化学机械抛光液
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