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申请/专利权人：北京华大九天科技股份有限公司
摘要：本申请公开了一种集成电路版图的处理方法及处理系统。该处理方法包括：根据用户输入参数对所述集成电路版图中的第一图形的形状参数进行处理，从而将所述集成电路版图中的第一图形转换为预定形状；根据所述用户输入参数和所述预定形状计算获得并显示辅助图形；以及根据所述辅助图形调整第二图形的形状，其中，所述辅助图形的轮廓形状与所述预定形状的轮廓形状一致且成比例。该处理方法可以快速有效、正确地在集成电路版图中自动处理第一图形和第二图形。
主权项：1.一种集成电路版图的处理方法，包括：根据用户输入参数对所述集成电路版图中的第一图形的形状参数进行处理，从而将所述集成电路版图中的第一图形转换为预定形状；根据所述用户输入参数和所述预定形状计算获得并显示辅助图形；以及利用所述辅助图形调整第二图形与所述第一图形邻近的部分，使得所述第二图形与所述第一图形邻近的部分的轮廓形状根据所述辅助图形的轮廓形状缩进，其中，所述辅助图形的轮廓形状与所述预定形状的轮廓形状一致且成比例。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京华大九天科技股份有限公司 集成电路版图的处理方法及处理系统
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