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申请/专利权人：唐山标先电子有限公司

摘要：本实用新型涉及清洗基片装置的技术领域，特别是涉及一种电弧离子源清洗基片装置，其不仅使用了机器上下料，减少了人为操作的失误，防止对清洗完的基片造成二次污染，而且提高了清洗效率，可以一次对大量基片进行清洗，提高了工作效率；包括清洗箱；还包括抽气机构、清洗机构、两组移动机构和两组夹持机构，抽气机构安装在清洗箱上并抽走清洗箱内空气，清洗机构安装在抽气机构上并对基片进行清洗，两组移动机构安装在清洗箱上，两组夹持机构安装在移动机构上，移动机构和夹持机构配合将基片从清洗装置上取下。

主权项：1.一种电弧离子源清洗基片装置，包括清洗箱01；其特征在于，还包括抽气机构02、清洗机构03、两组移动机构04和两组夹持机构05，抽气机构02安装在清洗箱01上并抽走清洗箱01内空气，清洗机构03安装在抽气机构02上并对基片进行清洗，两组移动机构04安装在清洗箱01上，两组夹持机构05安装在移动机构04上，移动机构04和夹持机构05配合将基片从清洗装置上取下；清洗箱01包括箱体11、铰链12、密封门13、门把手14、两组装载盒15和四组把手16，箱体11放置在地面上，箱体11的内部设置有空腔，铰链12转动安装在箱体11上，密封门13安装在铰链12上，门把手14安装在密封门13上，两组装载盒15分别放置在箱体11的空腔内，四组把手16分别安装在两组装载盒15上；抽气机构02包括伺服电机一21、减速机22、转轴23、密封圈24、气泵25、抽气管26和阀门27，伺服电机一21的底端与箱体11的底端连接，减速机22的底端与箱体11的底端连接，转轴23转动安装在箱体11的空腔内并与减速机22纵向连接，密封圈24安装在转轴23与箱体11的连接处，气泵25安装在减速机22上，抽气管26安装在气泵25上并与箱体11的空腔内部连通，阀门27安装在抽气管26上；清洗机构03包括三组支撑杆31、清洗板32、保护壳33、多组隔板34和电弧离子源组件35，三组支撑杆31均安装在转轴23上，清洗板32的底端与转轴23的顶端连接，保护壳33安装在清洗板32上，多组隔板34均安装在保护壳33上，电弧离子源组件35安装在箱体11上；移动机构04包括伺服电机二41、丝杠42、滑块43、气缸44、两组导向杆45和底座46，伺服电机二41安装在箱体11的外侧壁上，丝杠42转动安装在箱体11的空腔侧壁上并与伺服电机二41连接，滑块43滑动安装在丝杠42上，气缸44安装在滑块43上，两组导向杆45均安装在滑块43上，底座46与气缸44连接并滑动安装在两组导向杆45上；夹持机构05包括伺服电机三51、传动轴52、齿轮53、连接板54、电动机55和抓取夹56，伺服电机三51安装在底座46上，传动轴52转动安装在底座46上并与伺服电机三51连接，齿轮53安装在传动轴52上，连接板54滑动安装在齿轮53上并且连接板54内部齿轮与齿轮53啮合，电动机55安装在连接板54上，抓取夹56转动安装在连接板54上并与电动机55连接。

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