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申请/专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
摘要：本申请提供一种光掩模钝化层制造方法，涉及光掩模的技术领域，其包括以下步骤：S1，获取晶圆结构；S2，将晶圆结构置于真空腔体中，向真空腔体中通入氧气和氯气，通过加载射频电源，产生氯离子基团对阻挡层、钝化层及金属层进行蚀刻，蚀刻出光刻图形的蚀刻窗口；S3，通过加载射频电源，产生氧离子基团与金属层被蚀刻出的侧边进行氧化反应，使得金属层被蚀刻出的侧边表面生成钝化层；S4，去除钝化层表面的阻挡层。通过氧离子基团和氯离子基团直接在干法蚀刻机台上，一次性完成晶圆结构的蚀刻及金属层表面钝化层的生成，进而省去了转移至Asher机台进行钝化层制作的工艺流程，摆脱了工艺流程的局限性，优化了制程，降低了工艺成本。
主权项：1.一种光掩模钝化层制造方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，获取晶圆结构，所述晶圆结构包括基底，所述基底上依次覆盖的金属层、钝化层及阻挡层；S2，将所述晶圆结构置于真空腔体中，向所述真空腔体中通入氧气和氯气，通过加载射频电源，产生氯离子基团对阻挡层、钝化层及金属层进行蚀刻，且蚀刻至基底表面停止，蚀刻出光刻图形的蚀刻窗口；S3，通过加载射频电源，产生氧离子基团与金属层被蚀刻出的侧边进行氧化反应，使得所述金属层被蚀刻出的侧边表面生成钝化层;S4，去除钝化层表面的阻挡层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广州新锐光掩模科技有限公司 光掩模钝化层制造方法
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