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申请/专利权人：中国人民解放军国防科技大学
摘要：本发明公开了一种可降低位姿精度要求的磁流变抛光装置及其应用方法，本发明磁流变抛光装置包括带有抛光轮的磁流变抛光组件，所述抛光轮表面上套设有环形的柔性部件，使得磁流变液在磁流变抛光组件的磁场作用下在吸附在柔性部件的表面上形成磁流体缎带绕抛光轮旋转以用于在经过工件时剪切去除元件表面的材料；本发明方法包括在抛光轮与工件间的间隙保持不变的情况下，通过调节柔性部件的压力改变磁流体缎带对工件表面的压入深度来实现可变去除函数抛光。本发明旨在降低磁流变抛光时对Z轴、抛光轮圆跳动、抛光缎带波动等抖动（空间位姿的）敏感程度，增强去除函数的稳定性，提高单次面形收敛比。
主权项：1.一种可降低位姿精度要求的磁流变抛光装置，包括带有抛光轮（4）的磁流变抛光组件，其特征在于，所述抛光轮（4）表面上套设有环形的柔性部件（6），使得磁流变液在磁流变抛光组件的磁场作用下在吸附在柔性部件（6）的表面上形成磁流体缎带绕抛光轮（4）旋转以用于在经过工件时剪切去除元件表面的材料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国人民解放军国防科技大学 一种可降低位姿精度要求的磁流变抛光装置及其应用方法
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