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申请/专利权人：上海量子科学研究中心;合肥国家实验室
摘要：本发明公开了一种用于测量透明介质层底面残胶的白光干涉仪，包括：激光光源、白光光源、凸透镜一、参考镜、滤光片、光信号探测器、透镜、物镜、样品台、分光镜一、分光镜二、CCD图像传感器、凸透镜二以及电脑，凸透镜一和凸透镜二分别位于激光光源和白光光源的发射端。本发明在光路系统中增加一台光信号探测器，该光信号探测器可以测定接收到光的强度，当光信号探测器的光的强度达到最大值时，表明从白光干涉仪发出的光已经聚焦在透明介质底层的残胶表面，根据此时的位置信息再进行观察，可以实现对准透明介质层底面的区域成像，达到分析透明层底面残胶的作用，有助于实现测量透明介质底层的残胶。
主权项：1.一种用于测量透明介质层底面残胶的白光干涉仪，包括：激光光源1、白光光源2、凸透镜一3、参考镜4、滤光片5、光信号探测器6、透镜7、物镜8、样品台10、分光镜一12、分光镜二13、CCD图像传感器14、凸透镜二15以及电脑16，其特征在于，凸透镜一3和凸透镜二15分别位于激光光源1和白光光源2的发射端，且凸透镜一3和凸透镜二15另一侧分别设置有分光镜二13、滤光片5、分光镜一12、物镜8以及样品台10，所述分光镜一12另一侧设置有透镜7，透镜7另一侧设置有光信号探测器6，所述分光镜二13的另外两侧分别设置有参考镜4和CCD图像传感器14。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海量子科学研究中心 合肥国家实验室 一种用于测量透明介质层底面残胶的白光干涉仪
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