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基于倾斜像差的光场成像 

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申请/专利权人:丹麦技术大学

摘要:公开了一种用于从至少第一波场强度图和第二波场强度图获得波场的横向相位梯度的方法,包括以下步骤:使用定位在电磁辐射源与捕获所述第一波场强度图的电磁辐射检测器之间的滤波器,以第一非相干倾斜像差捕获处于第一非相干倾斜像差度的目标的所述第一波场强度图;使用定位在电磁辐射源与捕获所述第二波场强度图的电磁辐射检测器之间的滤波器,以第二和不同的非相干倾斜像差捕获处于第二非相干倾斜像差度的所述目标的所述第二波场强度图;至少基于波场强度图的对数差除以所述第一非相干倾斜像差与所述第二非相干倾斜像差之间的差的幅度来确定所述横向相位梯度。进一步公开了一种成像系统、一种计算机程序产品和该方法的应用。

主权项:1.一种用于从至少第一波场强度图1和第二波场强度图2获得波场的横向相位梯度的方法,所述方法包括以下步骤:-使用定位在电磁辐射源6与捕获所述第一波场强度图1的电磁辐射检测器7之间的具有带连续导数的衰减曲线的第一滤波器5,以第一非相干倾斜像差捕获目标4的所述第一波场强度图1,-使用定位在电磁辐射源与捕获所述第二波场强度图的电磁辐射检测器之间的具有带连续导数的衰减曲线的第二滤波器5,以第二非相干倾斜像差捕获所述目标4的所述第二波场强度图2,其中所述第二非相干倾斜像差不同于所述第一非相干倾斜像差,-至少基于波场强度图的对数差除以所述第一非相干倾斜像差与所述第二非相干倾斜像差之间的差的幅度来确定所述横向相位梯度。

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