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申请/专利权人：家登精密工业股份有限公司
摘要：本发明涉及一种极紫外光光掩模容器。所述容器包括一内盒总成及一外盒总成。所述内盒总成布置在外盒总成中，包括基座及盖子。所述基座具有上表面、支撑件、导沟结构和周围壁。多个定位件设置在所述上表面并从所述上表面突出。所述上表面包括承载面、周边沟槽结构以及第一接面。承载面携带所述极紫外光光掩模。所述周边沟槽结构具有环形结构，其底部低于所述承载面。所述承载面、所述周边沟槽结构及所述第一接面从上表面的中央向所述周围壁依次分布。所述支撑件位于所述多个定位件中一双定位件之间。所述导沟结构环绕所述支撑件。所述导沟结构的沟槽间隙大于尺寸阈值以引起气体流动，并促进所述支撑件周围产生涡流。
主权项：1.一种用来装载工件的容器，包括：基座，其具有上表面，多个定位件设置在所述上表面并从所述上表面突出，所述上表面包括：承载面，定义在所述上表面，当收到所述工件时，用來承载所述工件；周边沟槽结构，其具有环形平面轮廓，其中所述周边沟槽结构的底部低于所述承载面；以及第一接面，其中所述承载面、所述周边沟槽结构、以及所述第一接面从所述上表面的中心向边缘依序分布，并且所述第一接面低于所述承载面，且所述周边沟槽结构的底部低于所述第一接面，其中，所述基座进一步包括：支撑件，其位于所述多个定位件中一双定位件之间；以及导沟结构，其环绕所述支撑件，其中所述导沟结构的沟槽间隙大于尺寸阈值以引起气体流动，并促进所述支撑件周围产生涡流。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 家登精密工业股份有限公司 用来装载工件的容器
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