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申请/专利权人：苏州光晶航空科技有限公司
摘要：本发明公开了10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，包括玻璃基材，位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜，以及位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体，一维光子晶体为竖向多层分布，一维光子晶体内设置有缺陷层，且激光减反射膜和一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜，一维光子晶体包括交替排列的高折射率材料层和低折射率材料层；本发明具有10.6μm激光透过率≥99％，8μm‑14μm红外波段平均辐射率≤0.15，良好的疏水和疏油性能、良好的耐候性等特点，可用于10.6μm激光窗口的红外特征抑制。
主权项：1.10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，包括：玻璃基材；位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜；以及，位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体；其中，所述一维光子晶体为竖向多层分布，所述一维光子晶体内设置有缺陷层，且所述激光减反射膜和所述一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜；所述一维光子晶体包括交替排列的高折射率材料层和低折射率材料层，所述高折射率材料层为锗膜、碲膜中的一种，所述低折射率材料层为硒化锌膜、硫化锌膜、三氟化钇膜中的一种；所述一维光子晶体的层数为6层，所述缺陷层位于第3层和第4层之间；所述高折射率材料层和所述低折射率材料层的光学厚度比为0.785-1.273，一层高折射率材料层和一层低折射率材料层的光学厚度和为一维光子晶体中心波长的一半，所述一维光子晶体的中心波长为9.5μm-10.6μm；所述缺陷层为三氧化二铝膜、三氟化镱膜、二氧化硅膜、三氟化钇膜中的一种，所述的缺陷层厚度为3nm-285nm。
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权利要求：
百度查询： 苏州光晶航空科技有限公司 10.6μm激光高透过的红外低辐射材料
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