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申请/专利权人：连科半导体有限公司
摘要：本发明提供一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构，包括多个依次叠放的舟片；所述舟片设有多个镂空区域，所述镂空区域用于安装硅片，且所述镂空区域周围设有至少一个卡住所述硅片的勾点；所述镂空区域安装硅片后，相临两个舟片之间形成独立的且密闭的镀膜通道，所述镀膜通道的延伸方向平行于所述舟片的长度方向，所述舟片在其长度方向的两端分别加工有与所述镀膜通道连通的进气孔和出气孔；所述镀膜通道内通入镀膜气体或惰性气体。本发明单个设备上可以镀多种膜，节省了倒片时间，同时减少倒片过程的划伤，提升了良率。同时避免镀膜过程暴露在空气中，减少污染。
主权项：1.一种可镀多种膜的管式PECVD石墨舟结构，其特征在于，包括多个依次叠放的舟片，多个所述舟片的叠放方向沿所述舟片的厚度方向；所述舟片沿其长度方向上设有多个镂空区域，所述镂空区域用于安装硅片，且所述镂空区域周围设有至少一个卡住所述硅片的勾点；所述镂空区域安装硅片后，相邻两个舟片之间形成独立的且密闭的镀膜通道，所述镀膜通道的延伸方向平行于所述舟片的长度方向，所述舟片在其长度方向的两端分别加工有与所述镀膜通道连通的进气孔和出气孔；在所述舟片的长度方向的两侧，相邻两个舟片之间的缝隙处安装有隔板，所述隔板通过加工在两个所述舟片之间的缝隙处的隔板安装槽与两个所述舟片连接，并密封所述缝隙；相邻两个所述隔板之间具有多个舟片陶瓷绝缘块；所述舟片在其长度方向的一端安装有电极，相邻两个舟片的电极分别位于舟片的两端；所述镀膜通道内通入镀膜气体或惰性气体；多个所述镀膜通道内一部分通入相同的镀膜气体，另一部分通入不同的镀膜气体，或一部分通入相同的镀膜气体，另一部分通入惰性保护气体，或一部分通入不同的镀膜气体，另一部分通入惰性保护气体，或一部分通入相同的镀膜气体，一部分通入不同的镀膜气体，其余部分通入惰性保护气体。
全文数据：
权利要求：
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