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申请/专利权人:青岛天仁微纳科技有限责任公司
摘要:本发明公开了一种纳米压印过程中模具与基底对准监测方法,属于图像处理技术领域,包括以下步骤:S1、获取模具的参考数据和基底的压印实时数据,并对基底的压印实时数据进行预处理,得到基底的压印数据;S2、计算模具的参考数据与基底的压印数据之间的对准强度;S3、根据模具的参考数据与基底的压印数据之间的对准强度,确定压印的对准结果。本发明可以对压印结果实现精准评估,减少由于压印未对准造成的成品损失,提高压印效率。
主权项:1.一种纳米压印过程中模具与基底对准监测方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、获取模具的参考数据和基底的压印实时数据,并对基底的压印实时数据进行预处理,得到基底的压印数据;S2、计算模具的参考数据与基底的压印数据之间的对准强度;S3、根据模具的参考数据与基底的压印数据之间的对准强度,确定压印的对准结果。
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