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申请/专利权人：武汉大学
摘要：本发明公开了一种聚合物基底支撑的超薄ZIF膜的制备方法，该方法包括在聚合物顶部沉积ZnO层，将所述ZnO层转化为连续的ZIF‑8层，所述ZIF‑8层由聚合物基底支撑。该方法操作简单，根据该方法可以获得均匀且完整的聚合物基复合材料。
主权项：1.一种聚合物基底支撑的超薄ZIF膜的制备方法，其特征在于，包括：在聚合物顶部沉积ZnO层，将所述ZnO层转化为连续的ZIF-8层，所述ZIF-8层由聚合物基底支撑。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉大学 一种聚合物基底支撑的超薄ZIF膜的制备方法
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