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一种多阴离子掺杂的三元前驱体及其制备方法与应用 

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申请/专利权人:荆门市格林美新材料有限公司;格林美股份有限公司

摘要:本发明提供了一种多阴离子掺杂的三元前驱体及其制备方法与应用,所述制备方法通过共沉淀法,加入特定的表面活性剂和阴离子盐溶液,阴离子盐溶液包括S盐、Cl盐、F盐或硼酸盐中的至少两种,制备得到的三元前驱体阴离子分布更均匀、分散性更好,且三元前驱体结晶性更好,致密度更高,缓解了传统氢氧化物共沉淀法中由于碱浓度过高造成的前驱体颗粒严重团聚现象,且多阴离子的均匀掺杂能够降低锂层与氧层之间的相互作用力来增大锂层与氧层的间距,降低Li+的迁移势垒,加速Li+的传输,提高三元正极材料的倍率性能。

主权项:1.一种多阴离子掺杂的三元前驱体的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:将含有表面活性剂的镍钴锰金属盐混合溶液、阴离子盐溶液、沉淀剂溶液、络合剂溶液并流注入反应底液中,进行共沉淀反应,直至体系内粒径D50达到目标粒径后,停止进料,经固液分离得到多阴离子掺杂的三元前驱体;其中,所述阴离子盐溶液包括S盐、Cl盐、F盐或硼酸盐中的至少两种。

全文数据:

权利要求:

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