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申请/专利权人：深圳市黄金屋真空科技有限公司
摘要：本申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种靶基距可调的真空镀膜设备，其包括镀膜容器，所述镀膜容器内形成真空室，所述真空室内设置有衬底架和靶座，分别用于固定待镀膜产品和靶材，所述真空室内设置有旋转台和公转组件，所述公转组件与旋转台连接，用于驱动旋转台转动，所述衬底架固定于旋转台上，所述镀膜容器上设置有两个安装座，两个所述安装座分别与靶座相连接，所述镀膜容器上还设置有调节组件。本申请通过调节组件的设置，由第一驱动器驱动旋转杆转动，连杆带动安装座移动相应距离，实现靶基距的调节，调节过程不需要人工干预，调节精度高，速度快，从而保证了镀膜质量。
主权项：1.一种靶基距可调的真空镀膜设备，包括镀膜容器（1），所述镀膜容器（1）内形成真空室（2），所述真空室（2）内设置有衬底架（3）和靶座（4），分别用于固定待镀膜产品和靶材，其特征在于：所述真空室（2）内设置有旋转台（5）和公转组件（6），所述公转组件（6）与旋转台（5）连接，用于驱动旋转台（5）转动，所述衬底架（3）固定于旋转台（5）上，所述靶座（4）设置有两个，两个所述靶座（4）对称设置于衬底架（3）旋转路径的两侧，所述镀膜容器（1）上设置有两个安装座（7），两个所述安装座（7）分别与靶座（4）相连接，并可带动靶座（4）在真空室（2）内移动，所述镀膜容器（1）上还设置有调节组件（8），用于带动两个安装座（7）相背或相向移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市黄金屋真空科技有限公司 一种靶基距可调的真空镀膜设备
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