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申请/专利权人：武汉理工大学
摘要：本发明属于涂层制备技术领域，具体涉及一种提高基体与PVD涂层结合力的方法，具体包括，先将基体进行抛光处理，再采用微波等离子体对基体表面进行刻蚀预处理，使得基体表面具备纳微级别的凹槽或凹坑结构，然后在刻蚀预处理后的基体表面沉积PVD涂层，最后获得高结合力的PVD涂层。该方法不仅能够提高基体表面的比表面积，增加涂层与基体之间的接触面积，形成机械锚固作用，而且通过微波等离子体刻蚀预处理的方法可去除基体表面氧化物，提高涂层与基体之间的结合力。该方法适用于工程实践领域，可以延长PVD涂层的使用寿命。
主权项：1.一种提高基体与涂层的结合力的方法，其特征在于，包括：A.用微波等离子体对所述基体表面进行刻蚀预处理；B.对所述刻蚀预处理后的基体进行涂层沉积。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉理工大学 一种提高基体与PVD涂层结合力的方法
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