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申请/专利权人：四川和晟达电子科技有限公司;江苏和达电子科技有限公司
摘要：本发明涉及一种蚀刻组合物。包括主蚀刻剂和辅助蚀刻剂，按重量百分比计，所述主蚀刻剂的组分包括：双氧水5‑30％、第一螯合剂0.5‑10％、第一抑制剂0.01‑2％、蚀刻添加剂0.01‑4％、第一钼合金蚀刻剂0.01‑2％、双氧水稳定剂0.01‑5％，去离子水补足余量；所述辅助蚀刻剂的组分包括：第二螯合剂1‑10％、第二抑制剂0.01‑2％、第二钼合金蚀刻剂0.1‑2％、胺类化合物0.1‑10％，去离子水补足余量。本申请蚀刻液寿命比以往提高了2倍以上高达14000ppm，对铜和钼‑钛合金2层膜的优秀蚀刻能力和玻璃基板损伤产生的Si系沉淀物最小化，同时可降低显示器制造成本的效果。
主权项：1.一种铜和钼钛合金双层膜用双剂型蚀刻组合物，其特征在于，包括主蚀刻剂，按重量百分比计，所述主蚀刻剂的组分包括：双氧水5-30％、第一螯合剂0.5-10％、第一抑制剂0.01-2％、蚀刻添加剂0.01-4％、第一钼合金蚀刻剂0.01-2％、双氧水稳定剂0.01-5％，去离子水补足余量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 四川和晟达电子科技有限公司 江苏和达电子科技有限公司 一种铜和钼钛合金双层膜用双剂型蚀刻组合物
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