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一种CFG蚀刻槽 

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申请/专利权人:成都拓米双都光电有限公司

摘要:本实用新型公开了一种CFG蚀刻槽,包括蚀刻槽本体,竖向设置于蚀刻槽本体内的挡板,开设于挡板上的与待蚀刻玻璃的中部减薄区域匹配的蚀刻缝隙,设置于蚀刻槽本体内并与蚀刻缝隙对应的柱形超声波发生器,以及设置于蚀刻槽本体外的与柱形超声波发生器电连接的超声控制器。本实用新型通过蚀刻槽的结构设计改进了CFG蚀刻工艺,利用超声波配合带有蚀刻缝隙的挡板促进待蚀刻玻璃中部减薄区域的蚀刻进程,玻璃蚀刻后表面呈现为无突变的均匀缓坡,解决了传统工艺中出现的厚度断差问题,而且通过使用本实用新型缩减了蚀刻工艺中胶带的使用过程,节约了胶带耗材成本,简化了工艺流程,也有效解决了传统工艺中胶带边缘渗酸导致的不良蚀刻问题。

主权项:1.一种CFG蚀刻槽,包括蚀刻槽本体1,其特征在于,还包括竖向设置于蚀刻槽本体1内的由耐腐蚀材料制成的挡板2,开设于挡板2上的与待蚀刻玻璃的中部减薄区域匹配的蚀刻缝隙3,设置于蚀刻槽本体1内并与蚀刻缝隙3对应的柱形超声波发生器4,以及设置于蚀刻槽本体1外的与柱形超声波发生器4电连接的超声控制器5,其中,待蚀刻玻璃和柱形超声波发生器4分别处于挡板2两侧。

全文数据:

权利要求:

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