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申请/专利权人：思而施技术株式会社
摘要：本发明涉及一种用于极紫外光刻的空白掩模以及光掩模，包含依序形成于透明基板上的反射膜、覆盖膜以及吸收膜，其中反射膜具有0.5纳米Ra或小于0.5纳米Ra的表面粗糙度。有可能防止极紫外光掩模图案的基脚发生，改善极紫外空白掩模的平坦度，且防止覆盖膜的氧化和缺陷。
主权项：1.一种用于极紫外光刻的空白掩模，包括：反射膜、覆盖膜以及吸收膜，依序形成于透明基板上，其中所述反射膜具有0.5纳米Ra或小于0.5纳米Ra的表面粗糙度；其中所述吸收膜由具有两层结构的钽化合物制成，在所述两层结构中，上部层含有氧且下部层不含有氧；其中所述下部层以组成比在厚度方向上变化的连续膜的形式形成；其中所述下部层以其中氮N含量在所述厚度方向上从表面逐渐降低的连续膜形成。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 思而施技术株式会社 用于极紫外光刻的空白掩模和光掩模
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