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一种金属氧化物绝缘层薄膜及其制备方法和应用 

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申请/专利权人:五邑大学

摘要:本发明公开了一种金属氧化物绝缘层薄膜及其制备方法和应用,属于薄膜晶体管TFT技术领域。本发明所述金属氧化物绝缘层薄膜的制备方法包括以下步骤:S1、将金属醇盐和溶剂混合得到前驱体溶液,静置析出晶体得到金属有机化合物晶体;S2、将金属有机化合物晶体研磨成粉末置于坩埚,在坩埚上方放置掩模版,将基板的导电表面朝向掩模板侧;S3、进行近场热蒸发操作,得到所述金属氧化物绝缘层薄膜。本发明通过简单的工艺,无需额外的化学合成,无需高温退火工艺,无需惰性气体氛围,便可直接在空气氛围中制备出低漏电流的金属氧化物绝缘薄膜,对制备高性能金属氧化物绝缘薄膜有重要意义。

主权项:1.一种金属氧化物绝缘层薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:S1、将金属醇盐和溶剂混合得到前驱体溶液,静置析出晶体得到金属有机化合物晶体;S2、将金属有机化合物晶体研磨成粉末状置于坩埚,在坩埚上方放置掩膜板,将基板的导电表面朝向掩膜板侧;S3、进行近场热蒸发操作,得到所述金属氧化物绝缘层薄膜。

全文数据:

权利要求:

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