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申请/专利权人：浙江创芯集成电路有限公司
摘要：一种图形修正方法、存储介质和存储终端，图形修正方法包括：提供待修正版图，所述待修正版图包括若干第一初始待修正图形和若干第二初始待修正图形，所述第一初始待修正图形线端和第二初始待修正图形的线端相邻，所述第一初始待修正图形的线端包括第一顶点，所述第二初始待修正图形的线端包括第二顶点；去除与所述第二初始待修正图形线端相邻的部分第一初始待修正图形，形成第一待修正图形，所述第一初始待修正图形的去除区域包括所述第一顶点；去除与所述第一初始待修正图形线端相邻的部分第二初始待修正图形，形成第二待修正图形，所述第二初始待修正图形的去除区域包括所述第二顶点；对所述第一待修正图形和第二待修正图形进行光学邻近效应修正。所述图形修正方法提升了图形的精度。
主权项：1.一种图形修正方法，其特征在于，包括：提供待修正版图，所述待修正版图包括若干第一初始待修正图形和若干第二初始待修正图形，所述第一初始待修正图形线端和第二初始待修正图形的线端相邻，所述第一初始待修正图形的线端包括第一顶点，所述第二初始待修正图形的线端包括第二顶点；去除与所述第二初始待修正图形线端相邻的部分第一初始待修正图形，形成第一待修正图形，所述第一初始待修正图形的去除区域包括所述第一顶点；去除与所述第一初始待修正图形线端相邻的部分第二初始待修正图形，形成第二待修正图形，所述第二初始待修正图形的去除区域包括所述第二顶点；对所述第一待修正图形和第二待修正图形进行光学邻近效应修正。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江创芯集成电路有限公司 图形修正方法、存储介质和存储终端
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