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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
摘要：本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种吸盘组件、曝光装置及光刻系统。吸盘组件包括：吸盘，其基底吸附面具有若干个与吸盘同心设置的基底吸附区，每个基底吸附区均包括主吸附区，至少最外侧的基底吸附区包括位于主吸附区外侧的边缘吸附区；每个主吸附区的边缘均围设有第一密封件，边缘吸附区的外边缘环绕设置有第二密封件，第一密封件和第二密封件的下端密封嵌设于吸盘，第一密封件和第二密封件的上端能够弹性凸出基底吸附面，第一密封件能够凸出基底吸附面的高度大于第二密封件能够凸出基底吸附面的高度。本发明公开的吸盘组件、曝光装置及光刻系统，能够提高对翘曲基底的吸附能力和吸附效果。
主权项：1.一种吸盘组件，其特征在于，包括：吸盘11，所述吸盘11的基底吸附面具有若干个与所述吸盘11同心设置的基底吸附区，每个所述基底吸附区均包括主吸附区111，所述主吸附区111的外径小于对应尺寸的基底300的外径，至少最外侧的所述基底吸附区包括位于所述主吸附区111外侧的边缘吸附区112；第一密封件12，每个所述主吸附区111的边缘均围设有所述第一密封件12，所述第一密封件12的下端密封嵌设于所述吸盘11，所述第一密封件12的上端能够弹性凸出所述基底吸附面；第二密封件13，环绕所述边缘吸附区112的外边缘设置，所述第二密封件13的下端密封嵌设于所述吸盘11内，所述第二密封件13的上端能够弹性凸出所述基底吸附面，所述第一密封件12能够凸出所述基底吸附面的高度大于所述第二密封件13能够凸出所述基底吸附面的高度；所述第二密封件13为O型密封圈。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种吸盘组件、曝光装置及光刻系统
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