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申请/专利权人：西湖大学

摘要：本公开涉及一种基于衍射仪的背靠背双层薄膜的晶体取向评估方法及装置。该方法包括：提供自设的样品台，使之包括可拆卸地机械固定在一起并以第一间隙相互平行的上基座和下基座；将样品台布置在样品台底座上；形成上薄膜组件和下薄膜组件；将上薄膜组件和下薄膜组件，以第二间隙彼此相对地分别安装在上基座和下基座上；对上薄膜组件和下薄膜组件进行同步面内圆周旋转测试，以得到上薄膜和下薄膜的面内phi谱图；根据上薄膜和下薄膜的面内phi谱图，同时评估上薄膜和下薄膜的相同待测面内晶面的晶体取向。利用该方法，能够同时检测并判断该双层薄膜的相同待测面内晶面的晶体取向是否对齐。

主权项：1.一种基于衍射仪的背靠背双层薄膜的晶体取向评估方法，其用于同时监测所述背靠背双层薄膜的所述晶体取向，其特征在于，包括：提供自设的样品台，使之包括可拆卸地机械固定在一起并相互平行的上基座和下基座，所述上基座和所述下基座彼此相对且具有第一间隙；将所述样品台布置在所述衍射仪的样品台底座上；通过将待检测的上薄膜沉积在上衬底上来形成上薄膜组件，通过将待检测的下薄膜沉积在下衬底上来形成下薄膜组件，其中，所述上衬底和所述下衬底均由第一单晶材料制成，所述上薄膜和所述下薄膜由相同的第二单晶材料制成；将所述上薄膜组件和所述下薄膜组件，以第二间隙彼此相对地分别安装在所述上基座和所述下基座上，其中，所述第二间隙小于所述第一间隙；对所述上薄膜组件和所述下薄膜组件进行同步面内圆周旋转测试，以得到所述上薄膜和所述下薄膜的面内phi谱图；根据所述上薄膜和所述下薄膜的所述面内phi谱图，同时评估所述上薄膜和所述下薄膜的相同待测面内晶面的所述晶体取向是否对齐；所述衍射仪还包括驱动所述样品台底座沿竖直方向升降的升降机构；其中，将所述上薄膜组件和所述下薄膜组件分别安装在所述上基座和所述下基座上具体包括：步骤1、在所述上基座被移除的状态下，仅在所述样品台底座上依次固定所述下基座和所述下薄膜组件；步骤2、在所述衍射仪的Z-scan扫描模式下，在所述竖直方向上进行X射线光强度扫描，通过所述升降机构将所述下薄膜组件调整至测试高度；步骤3、在所述衍射仪的rocking曲线扫描模式下，对所述下薄膜组件进行rocking曲线测试，调整所述下薄膜组件的表面水平度以获得最佳衍射强度；步骤4、在所述下衬底的面外晶面的理论2Theta衍射角附近进行所述rocking曲线测试，使所述下衬底的面外晶面达到最佳衍射强度；步骤5、在所述衍射仪的2Theta-Omega联动扫描模式下，确定所述下薄膜的面外晶面的实际入射角和实际出射角，并确定所述下薄膜的面外晶面的相对于理论2Theta衍射角的衍射角偏移量；步骤6、基于所述衍射角偏移量，对所述下薄膜组件进行所述待测面内晶面的面内圆周旋转测试，并根据获得的关于所述下薄膜的待测面内晶面的面内phi谱图，判定所述待测面内晶面的所述实际入射角和所述实际出射角是否精确；以及步骤7、若判定精确，则phi谱图上峰位和峰数与理论结构预测一致；然后在所述样品台底座上安装所述上基座并在所述上基座上固定所述上薄膜组件。

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百度查询： 西湖大学 基于衍射仪的背靠背双层薄膜的晶体取向评估方法及装置