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申请/专利权人：西安交通大学
摘要：本发明公开了一种抗氧化CrCrAl纳米多层涂层及其制备方法，包括交替层叠设置为Cr层和CrAl层，底层为Cr层，表层为CrAl层，Cr层和CrAl层均为纳米晶；其多层结构的设计使得涂层具有优异的抗氧化性能和力学性能。通过磁控溅射法在洁净的硅基体和锆合金基体上沉积CrCrAl纳米多层涂层，不仅成功制备了不同调制周期的CrCrAl纳米多层涂层，且所得涂层致密均匀，具有优异的抗氧化性能和力学性能。
主权项：1.一种抗氧化CrCrAl纳米多层涂层，其特征在于，包括交替层叠设置为Cr层和CrAl层，底层为Cr层，表层为CrAl层，Cr层和CrAl层均为纳米晶，CrAl层为长直的柱状晶，所述Cr层或CrAl层的单层厚度为20~500nm；所述CrCrAl涂层中的Al元素与O元素生成致密稳定的Al2O3层，阻挡环境中O元素向基体的扩散，涂层内部的异质界面作为阻挡O元素扩散的屏障，抑制O元素沿晶界的扩散，提高涂层的抗氧化性能；一个调制周期形成的Cr层和CrAl层的厚度比为1:1，所述CrAl层的成分为：81.7at.%Cr和18.3at.%Al，CrCrAl纳米多层涂层的总厚度为3.1~3.5μm，其硬度为5.3~6.3GPa；所述抗氧化CrCrAl纳米多层涂层的制备方法，包括以下过程：真空环境下，首先采用Cr靶在基体上溅射沉积Cr层，然后采用Cr靶和Al靶在Cr层上沉积CrAl层，所述Cr靶功率为200W，Al靶功率为150W，氩气流速为60sccm，沉积气压为0.3Pa，基体转速为15rmin；Cr层的溅射时间为（74-1851）±5s，Cr层和CrAl层的溅射时间比为1：0.8；一个Cr层和一个CrAl层作为一个调制周期，重复上述过程，交替溅射沉积至预设调制周期后，冷却到室温得到CrCrAl纳米多层涂层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安交通大学 一种抗氧化Cr/CrAl纳米多层涂层及其制备方法
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